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第104章 项目达标（第2页）

“江神，我服气了，今天就到这里吧，我今天已经做了4次实验了，放我回去休息吧。”

有了大师兄的开口，剩余的师兄师姐们也纷纷附和。

江辰听到大家的恳求，这才意识到，他好像压榨的有些过分了，不是谁都和他一样能够时刻保持精力充沛的。

他立刻向众人表达了歉意

“卢哥，是我考虑不周了，这样吧，今天我请客，请大家好好的吃一顿。”

听到江辰的建议，一旁的学姐立刻来了精神，连忙同意，然后拉着大家就直奔校外的烧烤摊。

吃完宵夜，江辰与众人道别后，脑中还在思考着项目的问题。

这个项目是研发光电材料，听卢师哥暗中透露，是应用在一些敏感设备上材料，在透光率，热辐射吸收率以及光反射率上有着很高的要求。

目前实验当中的材料已经在其中透光率和热辐射吸收率上达到了要求，但是最后一项光反射率上，迟迟无法解决。

江辰在思考当中，不知不觉的走回到了实验室。

他放不下刚刚整理出来的实验数据。

走进实验室，江辰拿起实验分析数据，根据他的计算结果，这份材料的光反射率依然低于项目要求。

也就是说材料依然不合格。

几次实验都是由卢师哥拿到结论以后，在进行材料的实验，这次他想要自己试一试。

江辰拿起卢师哥选择的几项材料，锑化铟，碲镉汞等等。

这几个材料确实目前在光电材料领域的主要材料，而且实验室里使用的也是常规的薄膜外延技术。

利用液相外延的方式制备大尺寸晶片。

这种液相外延的技术是老技术，早在上个世纪60年代就开始使用，设备简单，生长速率较高，掺杂剂选择范围广。

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但是在生产很薄的外延层时，在生产方向上控制掺杂剂与多元化合物的均匀性时效果很差。

江辰想起来，碲镉汞材料的缺点当中就由一条大面积均匀性差。

难道是因为薄膜技术工艺的选择问题，导致最后的光学薄膜缺陷影响了光反射率吗？

为什么不采用磁控溅射法技术了？这项技术的控制能力明显要强于液相外延啊，而且也是主攻电子，光学，磁学领域的方法。

江辰扫视了一圈实验室器材，这里也有设备啊。

想干就干，江辰立刻开始按照自己的思路制造光学薄膜。

先在一个真空室内装入惰性气体，在金属靶与沉积薄膜之间施加直流电压。

这样一来就将气体分解成了离子与电子。

随后开启磁控溅射机台的永磁体，制造一个磁场。

利用磁场使得被气体分解的电子做螺旋运动，延长它们的停留时间，从而生产更离子，在用过离子溅射的方式进入沉积薄膜中。

完成了薄膜的制作，江辰在利用化学气体淀积的方式将制备好的光学薄膜覆盖到锑化铟材料表面。

看着这最终的一小块材料，江辰立刻拿起傅里叶红外光谱分析仪开始测试材料的各项性能数据。

拿到数据以后，他趴在桌子上立刻开始计算，果然在不影响透光率和热辐射吸收率的情况下，让光折射率达标了。

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