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第二十六章 光刻之父（第1页）

林本舰，现年60岁，目前全球半导体技术，处于193纳米波长的光，而全世界半导体研发团队，都在专注于如何跳过193纳米，达到157纳米的研发。

而林本舰却凭借着浸入式微影技术，彻底改变了集成电路的生产，而这项技术是在透镜和硅片表面的间隙中，用水代替空气以提高分辨率，用193纳米的波长的光通过水作为介质，将其缩短至134纳米，由此打破了全球半导体的技术壁垒。

如此，他在后世被称之为光刻之父。

对于纳米技术，可能很多人不太理解，其实萧天也一样，但是他相对来说还针对性的查阅过资料，所以还算有模糊的轮廓。

纳米（nm）是一个长度单位，1纳米等于0.000000001米，1纳米等于4个原子大小，而原子是化学反应中最小的微粒，肉眼无法看到。

举例，如果把一根头发平均分成5万份，那么每一份的厚度就是1纳米。

由于纳米的特殊性，也演变出了纳米技术，而芯片技术，就是其中最典型的纳米技术范畴。

芯片又称集成电路，是丑国仙童公司RobertNoyce与德州仪器基尔比发明的，最开始的芯片是把晶体管、电阻、电阻等集成在一个很小的平板上，然后用很细的线把这些元器件连接起来，实现了最简单的芯片功能。

随着芯片技术的日益发展，现在的芯片已经可以集成数亿的晶体管，实现超级计算功能，而其制造工艺的先进，就以纳米单位制程描述。

在晶体管结构中，电流从Source（源极）流入Drain（漏级），Gate（栅极）相当于闸门，主要负责控制两端源极和漏级的通断。

至于纳米工艺制程，具体所指之处，就是栅极的最小宽度。

所以简单来说，一块芯片的功能强大与否，取决于它所承载的晶体管的数量，晶体管的数量越多，运算能力越强，功能也就越多。

而想要增加晶体管的数量，就需要把栅极的宽度变小，如此相对应的晶体管也会变小，芯片就可以承载更多的晶体管。

...

萧天走进书房后，看着悠闲坐在沙发椅上的林本舰，脑海中不禁下意识的闪过关于纳米技术的浅显理解，由此也不由自主的滋生出对于眼前老者的尊敬。

抛开其它，能够为全人类攻克科技技术的人物，是值得让人尊敬的。

在后世，人手一部智能手机的时代，若说没有眼前林本舰的浸入式微影技术，手机芯片如何承载上百亿的晶体管？

它又何以称之为智能手机？

所以，这里，才是源头！

当然，现在是2002年，而林本舰还没有发表关于浸入式微影技术的论文，同样也没有成为丑国国家工程学院院士，并且这个时候的光刻机全球市场，还是日岛国的尼康和佳能在称霸，其次就是阿斯麦，至于其余几家光刻机生产商，基本都没有自己的核心技术，属于陪跑的行列。

而在后世称霸光刻机市场的阿斯麦，现在处境非常难受，被尼康跟佳能联手制裁，导致市场份额一缩再缩，再加上顶头上司飞利浦已不再注入资金，因此又一次面临着解体困境。

然而改变这一切格局的关键点，就是眼前这位光刻之父林本舰。

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